第47章 新闻发布会

　　哗，在场媒体都惊呆了，如此硬气的回答也是很少见，一个这么小体量的公司直接跟全球最大经济体叫板真是让人佩服。
　　这时有米国媒体记者举手问：“请问胡总怎么回应米国媒体报道的个人助理窃取用户隐私并贩卖的事实，胡总的发言为何避重就轻，只提米国的所谓霸凌而不正面回应贵公司盗取用户隐私的事实？”
　　胡静说道：“关于我司个人助手盗窃用户隐私完全是西方媒体在财团和政治作用下捏造出来的假新闻，他们至今没有任何证据，只是道听途说的东西，我们强烈谴责这一行为，并且保留通过法律途径维护我们公司声誉的权利。”
　　又有一个嘤国记者问，“请问贵公司为什么不把源代码交给米国审查，是否说明贵公司的个人助理确实有侵犯隐私的事实？如果没有侵犯隐私，这样可以为以后进入米国市场保留余地。”
　　胡静怒斥道：“所谓公开源代码完全是米国借安全之名行窃取技术之实，而且不管我们有没有公开源代码，米国都不会放开个人助理的市场准入限制，这是众所周知的事实，任何智商正常的人都可以看出来。我们坚决拒绝这一无礼要求，并且以后都不会出口任何产品至米国，以保证我们的技术不被窃取。”
　　众记者又问了一些问题，胡静一一回答。
　　网络上关于这场新闻发布会下面网友也是议论纷纷。
　　“说得好，辣鸡米国，不要脸，玩不过就掀桌子不玩了。”
　　“还要我们提交源代码，要不要脸了，自己做不出技术就用手段打压别人，以为我们还是夏兴公司吗？”
　　“怼得好，就不应该惯着这群无赖。”
　　“虽然很爽，但还是很担心，被米国制裁还是很严重的，很多米国技术公司无法使用了。”
　　“这公司靠逸生就能活得很好了好吗？”
　　“胡总好酷啊，不过想看林神，他怎么不出镜。”
　　“嘘，偷偷告诉你，我姐姐就是逸升公司的，据说林神几乎不来上班，几天才来一次。”
　　林逸在家开始规划公司接下来的发展路线，如何能在一些顶尖技术方面让夏国摆脱西方的依赖，打破技术垄断，并且在国内确立自己的地位。
　　林逸仍对于自己公司存在一定的危机感，特别是在自己用手段消灭了一些敌人后，更加担心会不会有势力鱼死网破，或者担心上层会强制回收自己的技术。
　　虽然目前已经掌握了人工智能技术，但他还是想在更深层次推出代差碾压的技术来确保自己在国内的地位，将自己和国内的很多公司和经济发展绑定起来，让上层看到自己的重要性和科研的恐怖实力，这样他们会在某些方面保持一定的默许态度。
　　同时林逸也迫不及待想看看自己打破某些方面垄断之后，国外敌对势力的尴尬嘴脸。
　　林逸想要选择的方向就是攻克光刻机，最好是制造出能生产出0.1制程纳米碳纳米管芯片的专用光刻机。
　　是的，林逸已经把目光直接投向下一代碳基芯片了，制造出现有的光刻机以及先进硅基芯片已经不能满足他的胃口，他要做的是一件震惊世界的大事，直接震碎西方列强的下巴。
　　直接将芯片霸权推翻。
　　林逸之前制作的立体芯片并不适合推出来，因为这是靠段时间内融合也无法做到的工艺，他是用小宇宙生成的，而在现实世界大批量制备预计需要研制出原子排列3d打印机才可以实现。
　　他准备推出基于这种立体芯片架构的平面芯片，这样性能不会有那么逆天，也足够碾压现在的计算机，同时也能使用碳纳米管芯片专用的光刻机制备出来。
　　芯片架构都是现成的，因此他可以直接设计出来，这个不成问题。
　　现在难点是碳纳米管高纯度的大规模制备和制作成晶圆，最后重中之重是光刻机的研发和制造。
　　目前夏国科研团队虽然已经在实验室制成了一个简易的碳纳米管芯片，但是是用化学制备，需要精心培养控制，成品率低得惊人，而且成本非常高，只是证明了碳纳米管作为芯片材料的可行性，离商用阶段还要至少十五年。
　　事实上整个半导体领域夏国和国外顶尖水准差的还是不止一点半点。
　　只不过普遍来说，最难以攀登的高峰还是光刻机这个工业皇冠上的明珠，这个领域最让人绝望。
　　事实上，世界上目前最顶级的euv光刻机也只有荷南的asml这一家公司有，它是汇集了西方所有顶尖技术研发的，复杂程度令人发指，世界上任何一个国家都不能独立研制出光刻机。
　　然而西方国家可以自由购买不会被卡着，而夏国则被瓦森纳协定限制买不到最新的euv光刻机。
　　夏芯国际订购的一台都几年了也一直被米国施压卡着迟迟不到货。
　　当然并不是有了euv就能生产出5nm或7nm这些芯片，这还是看代工厂的生产线技术，同样的光刻机因特尔还在挤14nm的牙膏，三星也是在10nm左右，而湾积电已经将7nm工艺发展成熟甚至已经向5nm进发。
　　然而光刻机的重要性可见一斑，没有最新的光刻机你就只能在几十纳米制程徘徊，生产一些低端芯片，捡别人吃剩下的骨头。
　　光刻机的研发需要世界各国顶尖技术的支持，更需要大家的人力物力和资金。
　　asml公司99年就开始euv的研发工作，由三星因特尔台积电三大客户投资支持，10年才研发出第一台原型机，16年才实现了下游客户供货。
　　一般所说的光刻机指的是核心设备曝光机，任务就是把掩膜上的图案曝光到基片上。主要是两个子系统：光学系统和对准系统。
　　光刻机需要体积小功率极高的光源和完美的物镜，对准精度需要小于1nm，还需要专属的光刻胶和提高分辨率的技术。
　　很多技术都是集各种西方国家技术大成，比如卡尔蔡司的镜头全部是手工打磨好多年，产量极其有限，瑕疵大小以皮米计，如果反射面积有德意志那么大，则最高的凸起处不能高于1公分。
　　光刻机中心的镜头，由20多块锅底大的镜片串联组成。镜片得高纯度透光材料+高质量抛光。